方法一:CVD-化学气相沉积
该方法是将成堆的刀片之余一个熔炉中。先向腔室导入一系列气体净化管路,然后再导入另一系列气体。重复此流程,直到完成各层涂层。该流程在约900℃(1650℉)高温下执行30小时。厚度约为2~12μm。
CVD涂层的优势:
1.能够形成厚涂层。
2.能够实现均匀的涂层厚度。
3.对硬质合金基体的附着性非常好。
4.耐磨性非常好。
5.能够提供氧化物涂层。
方法二:PVD-物理气相沉积
该方法是用托盘将刀片装进镀膜室。将金属源(最常见的金属源是钛Ti)目标放到反应室壁上。将这些目标加热至导致固体金属离子化的温度。通过以气体为载体,这些离子随后将从目标运送至刀片。由于刀片温度较低,这些离子将凝结在刀片表面形成涂层。涂层厚度约为2~6μm,具体取决于刀片的应用范围。
PVD涂层的优势:
1.可确保良好的刃线韧性。
2.涂层能够保持“锋利”的切削刃。
3.可用于钎焊刀尖。
4.可用于整体硬质合金刀具。